壓電平臺的特點是納米級高分辨率、毫秒至亞毫秒級響應速度、納米級定位精度等，因此它非常適于快速、的位置調節應用，如樣品的顯微聚焦、微結構的超精密加工、光路的調整、毫牛級力的控制、圖像的穩定及分辨率增強、白光干涉等等。

壓電平臺的位移一般在幾百微米至毫米范圍，而在很多應用場景中，都需要宏動平臺（毫米級行程的手調臺、電動臺等）的輔助，在進行大范圍的粗調后，再通過壓電平臺進行納米級調節。

針對該類要求，芯明天提供定制化集成手調平臺或電動平臺的壓電平臺，從而既可完成位置的粗調，又可完成納米級精度的精調。下圖所示，為一款定制型宏微復合壓電平臺，集成手調臺的壓電平臺。

該款宏微復合壓電平臺的粗調為XY方向，每軸行程為13mm，讀數精度為10μm；壓電平臺精調部分的行程為100μm，精調分辨率達7nm，并且壓電部分配有位置傳感器，定位精度非常高。

詳細參數如下。

粗調運動自由度：XY

粗調行程范圍：13mm/軸

粗調讀數精度：10μm

精調運動自由度：Z

精調行程范圍：100μm

傳感器類型：SGS

閉環分辨率：7nm

閉環線性度：0.2%F.S.

重復定位精度：0.1%F.S.

承載能力：300g

通孔尺寸：φ48mm