廣州佳睿科學儀器有限公司
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產品概述:納米級物質成像、分析和控制—這些未來研發的關鍵因素—因HeliosNanoLabDualBeam系列儀器的誕生而變得普通平淡
產品概述:
納米級物質成像、分析和控制 — 這些未來研發的關鍵因素 — 因 Helios NanoLab DualBeam 系列儀器的誕生而變得普通平淡。 這些儀器融合了掃描電子顯微鏡 (SEM) 和聚焦離子束 (FIB) 技術,包括創新的氣體化學、檢測器和操縱器。 憑借的 SEM 分辨率、圖像質量和令人驚嘆的 Tomahawk™ FIB 性能,半導體和數據存儲實驗室、研究機構和工業界均可輕松快捷地實現樣品成像、銑蝕或制備。
主要優點:
•Helios NanoLab 系列儀器代表了 FEI 在場發射掃描電子顯微鏡 (FESEM) 和聚焦離子束 (FIB) 技術及兩者結合使用方面取得的進展。 作為 FEI 的第 11 代 DualBeam 平臺,旨在深刻體驗全新的超高分辨率二維和三維表征、高質量樣品制備和納米原型制造世界。
•Helios NanoLab 600i 在離子束、電子束、圖形和眾多功能方面取得顯著改進,進而實現實驗室標準應用的納米級銑蝕、成像、分析和樣品制備。
•Helios NanoLab 1200 DualBeam 是一款可用于300mm晶片的平臺. 在需要保證晶片不受損傷的條件下它有的性能. FEI在完整晶片上的雙束DualBeam技術得益于FEI的電子和離子光學, 它可在的高分辨率下完成完整晶片上透射電鏡樣品制備, 缺陷表征和分析
•Helios NanoLab 450S 極為適合高生產量、高分辨率 S/TEM 樣品制備、成像和分析。 的 FlipStage 和原位 STEM 探測器可在數秒內實現從樣品制備到 STEM 成像,同時不會破壞真空狀態或讓樣品暴露于環境。
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