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四方儀器始終專注于氣體分析儀領(lǐng)域的技術(shù)研發(fā)與創(chuàng)新，針對薄膜沉積設備清潔終點檢測需求，推出SiF4紅外氣體傳感器。其基于公司自主知識產(chǎn)權(quán)的雙光束紅外（NDIR）技術(shù)，精確測量半導體應?中微量特種?體的紅外光譜吸收，其零點漂移低、重復性好，確保每次清洗終點一致。測量穩(wěn)定性高（準確度≤±1.0% F.S.），響應速度快（響應時間T90≤2秒），實時監(jiān)測氣體濃度變化；原位設計，結(jié)構(gòu)緊湊，采用耐腐蝕材料，便于集成與維護；支持模擬/數(shù)字通信，靈活適配各類系統(tǒng)。實際測試中，其成功實現(xiàn)清潔終點的精準控制，助力CVD設備技術(shù)升級。
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