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| 膜厚儀，分為磁感應(yīng)膜厚儀，電渦流膜厚儀，熒光X射線膜厚儀。 膜厚儀簡(jiǎn)單地說螢光X射線裝置（XRF）和X射線衍射裝置（XRD）有何不同，螢光X射線裝置（XRF）能得到某物質(zhì)中的元素信息（物質(zhì)構(gòu)成，組成和鍍層厚度），X射線衍射裝置（XRD）能得到某物質(zhì)中的結(jié)晶信息。 膜厚儀具體地說，比如用不同的裝置測(cè)定食鹽yanghuana（NaCl） 時(shí)，從螢光X射線裝置得到的信息為此物質(zhì)由鈉（Na）和氯（Cl）構(gòu)成，而從X射線衍射裝置得到的信息為此物質(zhì)由yanghuana（NaCl）的結(jié)晶構(gòu)成。單純地看也許會(huì)認(rèn)為能知道結(jié)晶狀態(tài)的X射線衍射裝置（XRD為好，但當(dāng)測(cè)定含多種化合物的物質(zhì)時(shí)只用衍射裝置（XRD）就很難判定，必須先用螢光X射線裝置（XRF）得到元素信息后才能進(jìn)行定性。 膜厚儀也叫X射線測(cè)厚儀，它的原理是物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來的熒光的能量及強(qiáng)度，來進(jìn)行定性和定量分析。 膜厚儀分為手持式和臺(tái)式二種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀，電渦流鍍層測(cè)厚儀，熒光X射線儀鍍層測(cè)厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。 |
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