我們將在下面為大家仔細說一下關于直讀光譜儀內(nèi)部氬氣的重要作用。
氬氣的流量和壓力決定Ar氣對放電表面的沖擊力，必須適當。若沖擊能力低，即不足以將試樣激發(fā)過程中產(chǎn)生的氧和它形成氧化物沖掉，則這些氧化物必定凝集在樣品表面及電極上，抑制試樣的繼續(xù)蒸發(fā)，這種現(xiàn)象靠中心區(qū)愈嚴重。只有當氬氣的沖擊能力足以洗除氧和電極上的凝集物，同時又不至于使火花產(chǎn)生跳動時，才是佳狀態(tài)。
氬氣不純，含有過量氧含量，凝集在電極上的氧化物多，譜線強度降低，使氬火花放電不穩(wěn)定。水蒸汽和C02一樣，在高溫下可能分解出氧氣。因此水蒸汽和C02均不允許含量過大。碳過多，對含碳量較少的試樣的分析精度有直接影響。
為了提高氬火花的穩(wěn)定性，必須對氬氣進行凈化處理。可以在供氬管道上加上一個盛分子篩的容器，用以吸附氬氣中的水分及復雜氣體，使氬氣干燥和凈化。分子篩吸附的物質(zhì)可以用加熱的辦法去除。去除吸附物后的分子篩又恢復了吸附能力，還可以重復循環(huán)使用。也可以用條狀的氫氧化鉀去掉氬氣中的二氧化碳，也可以用鎂爐（在管道容器中裝入金屬鎂屑），爐子溫度400-600C，氬氣通過鎂爐后可以除去氧。經(jīng)過凈化裝置處理后的氬氣，就能滿足分析要求了。
氬氣減壓閥
為了避免空氣對氬氣管道的污染而降低氬氣純度，因此，平時不做分析時，常規(guī)光譜儀氬氣管道中也保持0.5-1升/分鐘的氬氣流量，稱之謂靜態(tài)氬沖洗火花室。因此操作者要注意找一塊樣品始終蓋住極板孔，進行分析需換磨樣品時，要求操作迅速，以免盡量減少空氣進入火花室。
氬氣系統(tǒng)由氬氣控制電路、電磁閥，氣流控制閥等組成，氣流量的分配根據(jù)激發(fā)過程的需要，由程序設定，各閥門己由制造廠設定，用戶不需要單獨調(diào)整，只需提供0.3MPa的氣源即可。
氬氣進入火花室有一條通道，從聚光鏡前面下方進入火花室，這樣就比較*地沖凈光線通過處空間的空氣，又可以阻止激發(fā)時產(chǎn)生的粉塵對聚光鏡的污染。
氬氣流量分配為：①惰性流量（待機狀態(tài)）為0.5升/分，此時電磁閥門關閉，氬氣經(jīng)過固定氣流控制閥保持其恒定值。OBLF公司的光譜儀在常規(guī)分析狀態(tài)下，靜態(tài)氬流量為零。②大流量沖洗，目的是沖擊更換樣品時帶進的空氣。此時電磁閥全開，保持流量為5-6升/分。③激發(fā)狀態(tài)。中間路電磁閥關閉，另一路與常流量合成3-5升/分流量，維持正常激發(fā)。當激發(fā)停止，兩閥關閉，又進入待機狀態(tài)。
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