1、雙光室，確保所有分析譜線都獲得很高分辨率。 SPECTROLAB S 配備兩套完整的光學系統。一個光室準確測量波長從120到240納米（nm）;另一個光室，波長范圍從210到800納米（nm）。 兩個光室都采用*的CMOS檢測器，具備恒溫裝置和壓力補償功能。

2、等離子發生器數字光源和點火板可靠的新型高能LDMOS等離子發生器光源，為SPECTROLAB S 輸出高穩定的火花放電，頻率高達1000 Hz，只需要很短的時間即可完成測試，例如分析低合金鋼小于 20 秒。該系統還允許特定應用的火花參數設置，以優化分析性能。

3、氬氣控制系統 SPECTROLAB S 采用全新程控流量。軟件根據分析程序設置氬氣流量。節約了氬氣消耗。氬氣閥體直接耦合到火花臺，無需管道連接，避免漏氣。

4、火花臺清理間隔較大程度延長 堅固的陶瓷內芯避免積塵粘附。流暢的氣路設計確保了很少的粉塵殘留（使得清理間隔時間延長了8倍）；對于大樣品量輸出的全自動光譜儀系統尤為重要。

5、快速讀出系統 斯派克的GigE創新讀出系統確保海量數據的快速處理，從而支持*的儀器性能表現。實現了*的全光譜范圍譜圖記錄。

6、低檢出限。SPECTROLAB S 采用的 CMOS+T技術，在關鍵元素的檢測限方面，超越光電倍增管技術的性能。通過配置參比通道，工作曲線可以獲得很好優化，可以快速定量分析ppm量級的高純金屬或合金中的痕量元素。

7、元素在低合金鋼中平均檢測限改善2倍，元素在純鋁中的平均檢測限改善5倍。

8、單一標樣實現整個系統的標準化, 此項每天可節省30分鐘工作時間。