半導(dǎo)體制造工藝中氧氣含量是一個關(guān)鍵參數(shù)，因為它可以影響材料的性質(zhì)、反應(yīng)速率和產(chǎn)品質(zhì)量。Microx-223氧分析儀是一款高精度的氣體分析設(shè)備(可以測量到10ppm以內(nèi)氧含量)，非常適合用于半導(dǎo)體工藝中的RTA（Rapid Thermal Annealing，快速熱退火）快速退火爐上監(jiān)控氧含量。

  以下是使用Microx-223氧分析儀在半導(dǎo)體RTA快速退火爐上監(jiān)控氧含量的步驟：

1.安裝和校準(zhǔn)：

● 將Microx-223氧分析儀安裝在RTA退火爐的氣體出口或取樣點，確保傳感器能夠直接接觸到爐內(nèi)處理過程中的氣體。

● 在安裝之前對氧分析儀進行校準(zhǔn)，以確保其測量結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。

2.系統(tǒng)集成：

● 將氧分析儀與RTA退火爐的控制系統(tǒng)（通常是自動化或PLC系統(tǒng)）進行集成。這可以通過硬線連接或網(wǎng)絡(luò)通訊（如RS-232, RS-485, Ethernet等）實現(xiàn)。

● 集成后氧分析儀可以實時向控制系統(tǒng)提供氧含量的數(shù)據(jù)，控制系統(tǒng)則可以根據(jù)這些數(shù)據(jù)調(diào)整爐內(nèi)條件或觸發(fā)警報。

3.設(shè)置報警和監(jiān)控閾值：

● 在控制系統(tǒng)中，為Microx-223氧分析儀設(shè)置報警閾值。當(dāng)氧含量超過或低于這些閾值時，系統(tǒng)應(yīng)能夠觸發(fā)警報，以通知操作人員及時采取措施。

● 設(shè)置監(jiān)控閾值，以便操作人員和質(zhì)量控制團隊可以持續(xù)監(jiān)控氧含量，并據(jù)此調(diào)整工藝參數(shù)或進行故障排除。

4.數(shù)據(jù)記錄和分析：

 ● 利用控制系統(tǒng)或附加的數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)，記錄氧含量的歷史數(shù)據(jù)。

 ● 分析這些數(shù)據(jù)，以識別工藝穩(wěn)定性、產(chǎn)品一致性和潛在的工藝改進點。

5.維護和校準(zhǔn)：

 ● 定期對Microx-223氧分析儀進行維護和校準(zhǔn)，以確保其長期準(zhǔn)確性和可靠性。

 ● 根據(jù)制造商的建議和半導(dǎo)體工藝的要求，制定維護計劃。

產(chǎn)品特點 

● 測量范圍：1ppm-25% O2

● 可靠的氧化鋯傳感器技術(shù)

● 適用于嚴苛的環(huán)境

● 響應(yīng)快

● 導(dǎo)軌式安裝

● LCD 顯示和 4 個多功能按鈕

● 4-20mA 信號輸出

● RS-232 通訊協(xié)議

● 24VDC 供電

● 3 組繼電器報警

● M18x1.5 螺紋過程接口