兩槽式提籃技術通過機械提籃裝置，將半導體芯片在高溫槽與低溫槽間垂直升降轉移。該技術結構簡單，設備制造無需復雜的氣流控制與精密風道系統，零部件少，采購成本比三箱式設備低約 30%。同時，其維護流程直觀，常規機械部件更換方便，進一步降低運維成本。但在潔凈度方面，機械提籃頻繁升降易產生金屬碎屑、潤滑油揮發等污染源，且樣品轉移過程中，外部環境空氣易進入槽內，引入顆粒污染物。據某晶圓廠實測，采用兩槽式提籃技術測試后，芯片表面顆粒物污染概率增加 15%，后續需投入額外人力、物力進行清潔處理，反而拉高了整體成本。

三箱式平移技術將測試區域獨立分隔，半導體芯片固定于測試區，高溫區與低溫區氣流通過水平平移的氣動風門導入。此技術采用全封閉風道與潔凈氣流循環設計，配合高效過濾器，可維持 ISO 5 級潔凈環境，有效隔絕外界污染。在某芯片測試中，三箱式平移設備使芯片測試后污染率幾乎為零，極大提升測試可靠性。然而，該技術需精密的風門驅動系統、高精度溫度傳感器和復雜的控制系統，設備采購成本顯著增加。同時，維護涉及專業電控與氣流系統檢修，單次故障維修成本可達兩槽式設備的 2 倍以上，對企業的資金與技術儲備要求較高。