電子、半導體工業的芯片生產在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話，會影響到后續工藝的處理效果和使用壽命。此外，晶元清洗和機械碾磨過程中都會產生廢水，造成對環境的污染。優普UPE連續電除鹽型超純水機采用了的連續電除鹽工藝，功能完備，水質穩定，尤適用于半導體元件/光碟/TFT液晶板集成電路研制&中試車間及實驗樓集中供水大量使用超純水（>1000升/天）之項目。
通過使用超濾、反滲透、EDI和核子級離子交換系統來生產滿足需求的超純水。并將生產過程中所產生的廢水經過膜系統的處理進行回收再利用，在很大程度上減少了電子、半導體行業的用水量、降低了生產成本醫藥行業純水設備技術方案,工業純水設備技術維修,反滲透純凈水設備方案設計
微電子行業包括了電解電容器生產、電子管生產、顯像管和陰極射線管生產、黑白顯像管熒光屏生產、液晶顯示器的生產、晶體管生產、集成電路生產、電子新材料生產等生產工藝，都需要工業超純水。傳統化學及介質過濾生產超純水的方法，會因在水中添加各種化學劑，制備過程冗長等各種因素造成產水的不穩定，無法確保長期、穩定的超純水。醫藥行業純水設備技術方案,工業純水設備技術維修,反滲透純凈水設備方案設計
采用“物理”凈化法(超濾→反滲透→EDI→拋光混床)，使超純水制備從傳統的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復合離子交換器等發生了一次gexin，從此進入了一個無需再生化學品的時代。膜法制備出來的工業純水，其純度可達到18MΩ·CM，且系統穩定，使用壽命長，且生產過程所產生的廢水又可回用再生。
純凈水設備：
反滲透系統是整個純凈水系統的核心部件，只有通過反滲透才能達到純凈水的標準。反滲透系統主要采用膜過濾工藝。然后水分子可以通過反滲透膜。其他一些如鈣、鎂、鈉等離子隨廢水一起排掉。下面本系統的組成部件。
1.精密過濾器
本過濾器主要過濾水中的大顆粒分子。
2.特種高壓泵
一般這里我們采用的高壓泵為南方特種泵。為反滲透設備提供強勁的動力。
3.反滲透膜
反滲透膜采用的是膜過濾技術。讓水分子通過其他一些離子不能通過達到凈化水的目的。
純凈水設備_原水預處理系統：
作為純凈水生產的依托是非常重要的。所以要生產純凈水一定是要選擇原水水質比較好的地方。如山泉、深井等。在這里牽扯到一個非常重要的指數就是“電導率”。一般而言電導率，越低。水越純凈。現在采用的水處理工藝都是采用的反滲透系統。經過處理后的水一般能達到90%——99%的脫鹽率。下面我介紹一下這個系統的組成部件。
1.原水泵
原水泵是為原水預處理系統提供原水壓力的作用。如果原水有壓力就可以不用這個設備。一般要求原水壓力>=0.3MP
2.原水箱
原水箱的作用更簡單，是儲存原水用的。這是怕原水萬一供不上作一個中轉。
3.石英砂過濾器
這個設備主要是過濾水中的微生物、塵土使原水達到清澈的目的。
4.活性炭過濾器
該設備主要是過濾水中的余氯。
5.加藥系統(陰陽離子交換系統)
以前本系統為陰陽離子交換系統，但是操作起來非常不容易且費工，費料。現在改為加藥系統直接向里添加阻垢劑。
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