化學吸附儀是一種用于能源科學技術領域的工藝試驗儀器，于2010年05月11日啟用。化學吸附儀技術指標禁止測試堿性較強的材料（例如K2O、Na2CO3、NaOH等）；禁止使用H2S、SO2等酸性氣體作為吸附氣體；以H2作為吸附氣體時，務必打開半導體冷阱（及循環水）捕獲反應過程中產生的H2O，以防止H2O對TCD造成影響；當以對熱電偶有腐蝕（危害）的氣體作為吸附氣體時，將熱電偶的位置更改至反應管外部（需安裝熱電偶夾）；反應管的使用溫度范圍為-196℃~1000℃，勿超溫使用；定期保養TCD檢測器（方法見相關文件）；。[1]化學吸附儀主要功能TPR:確定催化劑中可被還原成分的數量、開始被還原的溫度、詳情>>
化學吸附儀價格
